超高稳定度、超低纹波、过压、过流、短路、拉弧和过温等强大可靠保护作用
离子注入是一种将带电离子（如硼、磷等）通过高压电源加速成高能离子束，并精准轰击材料（如硅片、金属或陶瓷）表面的技术，用于改变材料表层的物理化学性质。在半导体制造中，它通过向硅晶圆注入特定杂质原子，实现晶体管漏区、阱区等关键结构的可控掺杂；在材料领域，可提升工具硬度或光学器件性能。该技术核心优势在于掺杂深度、浓度及区域的高度精确可控，是微电子芯片和高端材料改性的关键工艺。
