技术资源
静电卡盘12区独立高压实时弓曲补偿系统
在半导体制造、先进封装以及大尺寸平板显示面板的加工中,晶圆或玻璃基板在经历多道高温薄膜沉积、刻蚀、退火工艺后,会产生复杂且不可预测
450kV电子束定向能量沉积DEBD高压束流诊断电源
电子束定向能量沉积作为增材制造技术的一个重要分支,以其能量密度高、真空环境纯净、适用于高活性难熔材料等优点,在航空航天、高端模具修
450kV电子束定向能量沉积DEBD高压束流诊断电源
电子束定向能量沉积作为增材制造技术的一个重要分支,以其能量密度高、真空环境纯净、适用于高活性难熔材料等优点,在航空航天、高端模具修
160kV EUV光刻E-Chuck晶圆背面零残留高压策略
在极紫外光刻这一半导体制造最前沿的技术中,为实现13 5nm波长光源的高分辨率成像,整个光学路径和工件台环境都处于超高真空状态。作为承载
安瓿瓶西林瓶双工位160kV闪光高压并行触发
在制药行业的最终包装容器(安瓿瓶、西林瓶)密封性在线检测中,基于高压放电原理的检测技术因其高灵敏度与高速性而被广泛应用。其原理是向
320kV重离子治疗同步加速器高压剥离器电源
在重离子癌症治疗装置中,同步加速器是核心的离子加速与引出单元。为了将离子源产生的低电荷态离子(如碳离子的C4+或C6+)注入到环形同步加
静电卡盘高压多区独立PID纹波抑制系统
在半导体先进制造、平板显示以及高精度真空镀膜工艺中,静电卡盘作为晶圆或基板的非接触式夹持工具,其性能直接关系到工艺均匀性与产品良率
450kV电子束熔丝增材高压熔滴过渡控制电源
在电子束熔丝增材制造领域,特别是针对钛合金、高温合金等活性金属的大型结构件制造,电子束作为热源,以其高能量密度、真空环境及扫描灵活
160kV EUV光刻E-Chuck零电弧晶圆释放技术
在极紫外光刻系统中,静电卡盘承载着价值数百万美元的掩模版或晶圆,其吸附与释放过程的可靠性直接关系到设备的可用性与产出晶圆的良率。随