技术资源

微通道板增益恢复高压训练策略

微通道板作为一种基于二次电子倍增原理的高增益、低噪声二维成像探测器核心元件,广泛应用于高端光电倍增管、像增强器、质谱仪以及高能物理

静电卡盘射频干扰抑制高压设计

在现代等离子体工艺设备,如刻蚀机和化学气相沉积设备中,静电卡盘已成为固定晶圆的主流方案。它通过向内部电极施加数百至数千伏的直流高压

离子注入束流轮廓自适应高压整形

离子注入机作为半导体制造中的关键设备,其性能指标直接影响到掺杂工艺的精度与均匀性。在高端制程中,不仅要求注入剂量和能量的精确控制,

镀膜脉冲电源薄膜界面融合控制

在物理气相沉积领域,多层膜、超晶格或梯度功能薄膜的性能极大程度上依赖于层与层之间界面结构的质量。理想的界面应该是原子尺度上清晰、平

PPM级电源抗振动冲击封装

在航天器、航空电子、车载移动测量平台以及工业振动环境中,电子系统需要承受持续振动、随机冲击以及宽温变化等极端力学与环境应力。对于为

中子管靶材冷却高压系统集成

在紧凑型中子发生器中,中子管是核心部件,通过氘氚或氘氘核反应产生中子。其工作过程中,加速后的离子束流轰击靶材,除引发核反应外,绝大

扫描电镜低电压表面敏感高压模式

扫描电子显微镜是材料科学、生命科学和半导体工业中不可或缺的表征工具。传统的高电压(通常指10kV以上)成像模式能提供较高的信号强度和分

准分子激光脉冲时序高压精确同步

准分子激光以其波长短、脉宽窄、单脉冲能量高的特点,在工业微加工、光刻、薄膜退火、眼科手术及科学研究中广泛应用。许多先进的加工工艺,

离子注入缺陷钝化高压协同退火

离子注入技术是半导体制造中不可或缺的掺杂工艺,它能够精确控制杂质的浓度和分布。然而,高能离子轰击硅晶格会引入大量的点缺陷、间隙原子