准分子激光器作为深紫外波段的核心光源，在光刻、精密医疗及微纳加工等领域不可或缺。其性能高度依赖高压电源的重复精度——即输出脉冲能量
在半导体制造领域，光刻机的精度直接决定芯片的线宽极限与良率。作为光刻机的动力心脏，高压电源的瞬态恢复特性（即负载突变后电源恢复到设
离子注入技术是半导体制造中的关键工艺，其核心设备依赖超高压直流电源（通常达数百千伏）提供离子加速能量。此类电源的稳定性直接决定注入
静电卡盘作为半导体制造、精密仪器组装的核心部件，依赖高压电源产生的静电场实现工件的非接触式固定。然而，高压环境易引发电弧故障，轻则
在半导体制造、材料表面改性及先进医疗设备等领域，离子注入技术是调控材料性能的核心工艺。其核心挑战在于如何精确控制离子的能量、深度和
引言在半导体制造中，等离子体蚀刻是决定器件精度的核心工艺之一。蚀刻设备的高压电源系统直接控制等离子体的密度、能量分布及反应活性，其
准分子激光器（如ArF、KrF、XeCl等）依靠高压电源驱动气体放电，产生高能紫外激光束，广泛应用于半导体光刻、医疗手术、精密加工等领域。气
半导体制造的关键挑战与创新解决方案在极紫外（EUV）光刻技术主导的半导体制造中，高压电源的瞬态谐波控制直接决定光刻精度与良率。瞬态谐
离子注入作为半导体制造的核心工艺之一，其精度直接影响器件的电学性能和良率。传统高压电源在离子注入过程中存在两大痛点：一是注入能量的
