技术资源_泰思曼高压电源

刻蚀设备高频高压电源设计

在等离子体刻蚀、反应离子刻蚀等半导体及微纳加工设备中，高频高压电源是为产生和维持等离子体、以及控制离子对晶圆表面轰击能量的核心部件

在静电植绒工艺中，短纤维在高压静电场作用下被极化并沿电场线方向取向，最终垂直植入涂有粘合剂的基材表面。植绒质量的优劣，直观体现在绒

在聚焦离子束加工、离子注入、离子束刻蚀及分析等技术中，离子束斑的形状、尺寸、强度分布（即束斑轮廓）是决定加工分辨率、注入均匀性、刻

在采用磁控溅射、电弧离子镀等技术的真空镀膜过程中，为靶材或基板施加的直流或脉冲高压是驱动等离子体放电、实现材料溅射或离子轰击的核心

在计量科学、精密光谱分析、量子基准实验以及部分高端半导体计量设备中，对电压或电流基准的稳定性要求达到了惊人的严苛程度，其长期漂移需

在先进的物理气相沉积领域，磁控溅射技术是制备各类功能薄膜的主流方法。为了进一步提升薄膜质量（如提高致密度、改善附着力、降低内应力、

在基于微通道板的光电倍增与粒子探测系统中，MCP需要施加数百至数千伏的高压以建立电子倍增所需的内部电场。理想的MCP在无光或无入射粒子时

在半导体制造中，离子注入是精确控制掺杂浓度与分布的关键工序。离子束的能量，由加速高压电源的电压直接决定，其精度（包括绝对值的准确度

在半导体先进制造与真空工艺中，静电卡盘是实现晶圆或基板无夹持力固定、精确控温的核心部件。其工作原理是通过施加高压静电吸附力，使工件