溅射镀膜

纹波优于0 1%峰峰值、电弧快恢复、低电弧放电电流、纳秒级保护响应

溅射镀膜技术利用高能粒子（如氩离子）在真空环境中轰击靶材，使靶材表面的原子获得足够的能量而逸出，形成中性原子或分子束流，这些粒子随后沉积在基材表面形成薄膜。
该过程通常在低压条件下进行，气体（通常为氩气）被引入真空室中，并在高电压下进行辉光放电，产生离子化气体。