技术资源
离子注入高压电源的智能温度补偿技术
1 离子注入工艺的温度敏感性离子注入是半导体制造的核心工艺，通过高能离子束轰击芯片表面形成特定掺杂区域。该过程对温度极为敏感：&bul
蚀刻设备高压电源等离子体噪声抑制技术研究
等离子体噪声是半导体蚀刻工艺中的核心干扰源，表现为电源输出波动、电磁辐射及异常放电等现象，直接影响蚀刻均匀性、选择比和器件良率。其
准分子激光高压电源气体预电离控制技术研究
准分子激光器（如ArF、KrF等）作为深紫外波段的高功率脉冲光源，在光刻、微加工、医疗等领域具有不可替代的地位。其工作依赖于高压电源产生
光刻机高压电源低纹波谐振拓扑技术研究
光刻机作为半导体制造的核心设备，其曝光精度直接决定芯片的线宽极限。高压电源的纹波性能是影响曝光质量的关键因素——纹波会引入电场扰动
离子注入高压电源瞬态过压保护电路的设计与应用
离子注入是半导体制造中的关键工艺，其高压电源的稳定性直接决定注入精度与设备安全。高压电源在工作过程中易受瞬态过压冲击，例如负载突变
高频振荡抑制技术在静电卡盘高压电源中的突破性应用
静电卡盘作为半导体制造的核心组件，依赖高压电源产生的静电场实现晶圆的非接触式固定。然而，高压电源在动态负载下的高频振荡现象（通常由
高压电源纳米级纹波抑制技术在电镜应用中的突破
高压电源的稳定性直接影响透射电子显微镜（TEM）的成像精度。在纳米级观测中，输出电压的纹波必须控制在毫伏甚至微伏级别，否则会导致电子
高精度蚀刻设备中高压电源的动态功率因数校正技术
在半导体制造领域，蚀刻设备的稳定性和能效直接决定工艺精度与生产成本。高压电源作为蚀刻工艺的核心能源单元，其电能质量直接影响等离子体
准分子激光高压电源脉冲能量闭环控制技术研究
一、技术挑战与核心需求准分子激光器（如ArF、KrF）作为深紫外波段的核心光源，在光刻、微纳加工等领域需满足高重频（kHz级）、窄线宽（E95