技术资源_泰思曼高压电源

离子注入高压电源多级滤波网络设计

离子注入技术是半导体制造中的关键工艺，其核心设备依赖超高压直流电源（通常达数百千伏）提供离子加速能量。此类电源的稳定性直接决定注入

静电卡盘作为半导体制造、精密仪器组装的核心部件，依赖高压电源产生的静电场实现工件的非接触式固定。然而，高压环境易引发电弧故障，轻则

在半导体制造、材料表面改性及先进医疗设备等领域，离子注入技术是调控材料性能的核心工艺。其核心挑战在于如何精确控制离子的能量、深度和

引言在半导体制造中，等离子体蚀刻是决定器件精度的核心工艺之一。蚀刻设备的高压电源系统直接控制等离子体的密度、能量分布及反应活性，其

准分子激光器（如ArF、KrF、XeCl等）依靠高压电源驱动气体放电，产生高能紫外激光束，广泛应用于半导体光刻、医疗手术、精密加工等领域。气

半导体制造的关键挑战与创新解决方案在极紫外（EUV）光刻技术主导的半导体制造中，高压电源的瞬态谐波控制直接决定光刻精度与良率。瞬态谐

离子注入作为半导体制造的核心工艺之一，其精度直接影响器件的电学性能和良率。传统高压电源在离子注入过程中存在两大痛点：一是注入能量的

1 静电卡盘的工作原理与表面电荷的生成机制静电卡盘（ESC）通过高压电源在电极上施加直流电压（通常为500–4000 V），使晶片与介电

摘要准分子激光器在半导体光刻、眼科手术等领域具有不可替代的作用，其输出脉冲的时序精度直接影响工艺质量。高压电源作为驱动核心，放电延