技术资源_泰思曼高压电源

准分子激光高压电源气体放电控制的技术突破与应用演进

准分子激光器（如ArF、KrF等）作为深紫外波段的核心光源，其性能高度依赖于高压电源对气体放电的精确控制。气体放电的稳定性、效率及寿命直

光刻机作为半导体制造的核心装备，其高压电源的稳定性直接决定曝光精度和芯片良率。高压电源为电子束偏转系统、离子光学单元提供能量，而负

离子注入是半导体制造的核心工艺，其高压电源的稳定性直接决定芯片良率。然而，高压电源长期处于高负载、强电场环境，易受电磁干扰、元器件

在半导体制造工艺中，静电卡盘（ESC）通过高压电场吸附晶圆，其核心驱动部件——高压电源的稳定性直接决定晶圆平整度与温度均匀性。而高压

电子显微镜（SEM TEM）的性能直接依赖于高压电源的稳定性。电镜的电子枪需产生高能电子束（通常为1–300 kV）

引言光刻机作为半导体制造的核心装备，其高压电源的性能直接影响曝光精度与芯片良率。高压电源需为电子束偏转系统、离子光学单元等关键部件

在半导体制造、核工业及材料表面改性等领域，离子注入技术是实现材料性能精准调控的核心工艺。高压电源作为离子注入设备的心脏，其输出稳定

在半导体制造、精密仪器加工等领域，静电卡盘（ESC）通过高压静电吸附实现晶圆或工件的无机械接触固定，其核心驱动元件——高压电源的稳定

在电子显微镜（电镜）系统中，高压电源的稳定性直接决定了成像质量。高压电源的微小漂移（如电压波动、纹波或温度漂移）会导致电子束能量偏