技术资源
蚀刻设备高压电源自适应调节技术研究
在半导体制造中,蚀刻工艺的精度直接决定器件的性能与良率。高压电源作为蚀刻设备的核心部件,其输出特性的稳定性直接影响等离子体的离子能
准分子激光高压脉冲时序优化关键技术研究
准分子激光器作为紫外波段的核心光源,其性能直接取决于高压脉冲时序的精确控制。在光刻、精密材料加工等领域,时序偏差超过50 ns即可能导
光刻机高压电源抗干扰设计的关键技术
光刻机作为半导体制造的核心设备,其高压电源的稳定性直接决定曝光精度与芯片良率。然而,高压电源在运行时易受电磁干扰(EMI)、地线噪声
电镜高压电源低纹波优化技术研究与应用进展
高压电源的纹波控制是透射电子显微镜(TEM)性能的核心指标之一。纹波(输出电压的周期性波动)会直接影响电子束的稳定性,导致图像分辨率
蚀刻设备高压电源谐波抑制技术研究与应用
一、谐波成因与危害蚀刻设备的高压电源在工作时需将工频交流电转换为高频高压电能,其核心的整流与逆变电路(如IGBT、SiC器件)在开关过程
准分子激光高压电源模块化研究
准分子激光器作为深紫外波段的核心光源,在光刻、医疗和精密加工等领域具有不可替代的作用。其性能高度依赖高压电源的稳定性与响应速度。传
高压驱动技术在深紫外光刻光源中的核心应用与挑战
光刻机作为半导体制造的核心设备,其性能直接取决于光源系统的精度与稳定性。深紫外(DUV)光源(波长193nm 248nm)是目前先进芯片制程的关
离子注入高压电源瞬态保护设计
离子注入机是半导体制造的关键设备,其高压电源需提供数万至数百万伏特的稳定电压,以精确控制杂质离子注入晶片的深度和浓度。然而,高压电
静电卡盘高压绝缘材料的关键技术研究
一、高压绝缘材料的核心要求电学性能高介电强度:绝缘层需承受1 5–5 kV mm的高压电场,防止击穿失效。例如,氮化铝(AlN)陶瓷的介