技术资源_泰思曼高压电源

光刻机高压电源电磁兼容强化方案

光刻机作为半导体制造的核心设备，其高压电源的电磁兼容性（EMC）直接影响曝光精度与系统稳定性。高压电源在工作时产生的瞬态干扰、谐波噪

在半导体制造中，离子注入是定义器件电学特性的关键工艺，其精度直接影响芯片的性能与良率。离子注入机的高压电源系统需为离子加速提供稳定

在半导体制造工艺中，静电卡盘（ESC）通过高压电场吸附晶圆，其电源系统的性能直接影响工艺精度与稳定性。介质损耗作为高压电源的核心问题

电子显微镜（EM）对物质微观世界的揭示能力，其核心驱动力之一在于高压电源（High Voltage Power Supply, HVPS）的卓越表现。传统HVPS

引言光刻机作为半导体制造的核心设备，其高压电源系统的稳定性直接决定曝光精度与芯片良率。尤其在极紫外（EUV）光刻机中，激光等离子体光

1 技术原理与核心机制离子注入高压电源梯度升压技术通过动态调节加速电压（范围覆盖kV至MeV），实现离子在材料内部浓度的纵向梯度分布。

静电卡盘作为半导体制造、精密加工等领域的关键部件，依赖高压电源提供静电场以实现工件的无损固定。然而，高压环境下的介质击穿问题可能引

离子注入技术是半导体制造的核心工艺之一，其高压电源系统的能效比直接影响芯片生产的能耗与经济性。本文从材料创新、系统控制优化及热管理

摘要：随着半导体制造工艺向亚纳米精度发展，静电卡盘（ESC）的电压稳定性与热管理性能对晶圆形变控制至关重要。本文基于多物理场联合仿真