技术资源_泰思曼高压电源

高压电源阻抗匹配优化在蚀刻设备中的关键技术与应用

在半导体制造领域，蚀刻设备的高压电源性能直接决定了工艺精度与设备稳定性。高压电源的输出阻抗与等离子体腔室负载阻抗的匹配程度，是影响

摘要离子注入是半导体制造中的核心工艺，其精度直接决定器件的电学特性与可靠性。高压电源作为离子注入系统的动力心脏，其输出稳定性对杂质

在半导体制造工艺中，静电卡盘（Electrostatic Chuck, ESC）是晶圆蚀刻、沉积等关键工序的核心夹具，其稳定性直接决定工艺精度。高压电源

在半导体制造、新材料改性等领域，离子注入工艺常面临轻载工况（如局部掺杂、微区修整或科研级小剂量注入），传统高压电源在此类场景下存在

在半导体制造、电子显微镜等精密设备中，静电卡盘（ESC）通过高压电源产生的静电场吸附工件，其绝缘性能的稳定性直接决定工艺精度与设备安

在电子显微镜（电镜）等高端科研设备中，高压电源的稳定性直接决定了成像质量与设备寿命。然而，电镜工作时常因真空腔体内的杂质或微放电现

在半导体制造工艺中，离子注入机的高压电源系统需在毫秒级时间内实现千伏级电压的快速升压，这一过程易因容性负载（如离子源与引出电极）产

一、电弧产生机理与危害在半导体工艺中，静电卡盘（ESC）通过高压电源（典型参数：±5kV 10mA）产生静电场吸附晶圆。然而，在真空或

电镜成像质量直接依赖于高压电源的稳定性。当束流电压波动超过±0 01%时，可能导致图像分辨率显著下降。因此，高精度反馈调节系统成