技术资源_泰思曼高压电源

高压电源提升CMP产线稳定性

CMP产线最怕的不是产能不足，而是因电源波动导致的划伤、碟形凹陷、蚀坑等致命缺陷。高压电源稳定性已成为决定300mm晶圆抛光后表面质量的关

化学机械抛光设备虽单台功率不如刻蚀沉积设备，但7×24小时连续运行且抛光头、载盘、调节器等多电机系统频繁启停，导致实际电耗远超额

金属增材制造（即金属3D打印）对高压电源提出了一系列极端要求：电子束功率需在数秒内从0跳变至60kW，束斑位置毫秒级精确可控，加速电压稳

在多模块并联的高压电源系统中，传统均流控制依赖模拟反馈环路，存在响应滞后、负载突变时环流大、长期运行后模块间参数漂移等问题，导致部

纳米制造设备（如EUV光刻、HELium ion microscope、聚焦离子束、原子层沉积辅助电源等）对高压电源要求极端：电压10-100kV，纹波<1mV，响

当高压电源稳定性要求进入0 01ppm、纹波低至nV级、长时间漂移小于10ppm时，传统PID甚至线性最优控制都已触及物理极限。AI优化控制以深度神

科研仪器对高压电源的指标要求往往远超工业场景，电压范围从几十伏到数百千伏，纹波需低至μV级，稳定性要达到ppm量级，响应时间进入纳秒

高压电源常年工作在高电压、大电流、强电磁干扰环境，传统本地面板仅能显示几个基本参数，一旦深夜或周末出现异常往往需要工程师连夜赶赴现

静电喷涂对高压电源的输出特性要求极为苛刻：电压需在30-120kV间快速可调，电流响应需在微秒级跟随漆雾负载变化，电压过高易产生火花击穿，