技术资源_泰思曼高压电源

等离子点火高压电源的点火成功率保障

一、技术背景与痛点等离子点火技术广泛应用于电站锅炉、工业窑炉等设备的点火启动，高压电源作为等离子发生器的能量来源，其性能直接决定点

一、脉冲调控的核心参数与需求直流脉冲高压发生器的调控需围绕脉冲幅度（kV 级）、脉冲宽度（ns-ms 级）、重复频率（Hz-kHz 级）及上升

在半导体蚀刻工艺中，等离子体鞘层（位于等离子体与工件间的电离层，厚度几 μm - 几十 μm）的特性直接决定蚀刻速率与均匀性。传

准分子激光凭借短波长（193nm-351nm）特性，广泛应用于半导体光刻与精密加工领域，其输出性能依赖高压电源与准分子气体（ArF、KrF 等）的

光刻机作为半导体制造的核心设备，其纳米级光刻精度直接决定芯片良率，而高压电源作为光刻机的动力核心，电磁干扰（EMI）是制约其性能的关

离子注入是半导体器件制造中实现杂质精准掺杂的核心工艺，其通过高压电源加速杂质离子（如硼、磷），使离子注入晶圆形成源漏极、栅极等关键

在半导体晶圆制造的光刻、干法刻蚀等关键工艺中，静电卡盘（ESC）承担着晶圆精准夹持与温度控制的核心功能，而高压电源的输出稳定性直接影

在纳米科技与材料科学领域，透射电子显微镜（TEM）、扫描电子显微镜（SEM）的分辨率与分析精度，直接依赖电子束加速系统的稳定性，而高压电

准分子激光凭借 193nm 248nm 短波长、1-10ns 脉冲宽度的特性，广泛应用于光刻胶刻蚀、材料表面改性，其高压电源需为激光腔提供 20-50kV