技术资源_泰思曼高压电源

电子束曝光机高压电源稳压技术及应用

电子束曝光机作为纳米级图形加工的核心装备，其制版精度直接取决于高压电源的稳定性。高压电源为电子枪提供加速电压（通常为20–30 k

电子显微镜（电镜）的分辨率与成像质量高度依赖高压电源的稳定性。高压电源为电镜的电子枪提供加速电压（通常达数十至数百千伏），其输出噪

在半导体制造领域，蚀刻设备的性能直接决定了芯片结构的精度与良率。随着制程节点向5nm以下演进，晶圆尺寸增至12英寸，蚀刻工艺对高压电源

准分子激光器（如ArF、KrF、XeCl等）作为深紫外波段的高功率脉冲光源，在半导体光刻、医疗美容、微纳加工等领域具有不可替代的地位。其核心

在半导体制造领域，光刻机的精度直接决定芯片的制程水平。高压电源作为光刻机的核心子系统，为电子束偏转系统、离子光学单元及精密伺服机构

离子注入技术作为半导体制造、材料改性的核心工艺，其能量利用率直接影响制造成本与设备性能。高压电源作为离子注入系统的心脏，为离子加速

在半导体干法刻蚀工艺中，工艺气体的化学特性与高压电源的能量调控能力共同决定了刻蚀精度与效率。工艺气体通过电离生成活性基团（如自由基

准分子激光器作为半导体光刻、医疗等领域的关键光源，其输出稳定性直接取决于高压电源放电过程的精确控制。放电稳定性建模涉及气体动力学、

在高端光刻机中，高压电源的稳定性直接决定了曝光精度和系统可靠性。随着光刻技术向更小线宽（如亚微米级）发展，高压电源需在数千伏级电压