技术资源_泰思曼高压电源

光刻机高压电源的多级隔离设计

引言光刻机作为半导体制造的核心设备，其高压电源系统的稳定性直接决定曝光精度与芯片良率。尤其在极紫外（EUV）光刻机中，激光等离子体光

1 技术原理与核心机制离子注入高压电源梯度升压技术通过动态调节加速电压（范围覆盖kV至MeV），实现离子在材料内部浓度的纵向梯度分布。

静电卡盘作为半导体制造、精密加工等领域的关键部件，依赖高压电源提供静电场以实现工件的无损固定。然而，高压环境下的介质击穿问题可能引

离子注入技术是半导体制造的核心工艺之一，其高压电源系统的能效比直接影响芯片生产的能耗与经济性。本文从材料创新、系统控制优化及热管理

摘要：随着半导体制造工艺向亚纳米精度发展，静电卡盘（ESC）的电压稳定性与热管理性能对晶圆形变控制至关重要。本文基于多物理场联合仿真

准分子激光器（如ArF、KrF等）作为深紫外波段的核心光源，其性能高度依赖于高压电源对气体放电的精确控制。气体放电的稳定性、效率及寿命直

光刻机作为半导体制造的核心装备，其高压电源的稳定性直接决定曝光精度和芯片良率。高压电源为电子束偏转系统、离子光学单元提供能量，而负

离子注入是半导体制造的核心工艺，其高压电源的稳定性直接决定芯片良率。然而，高压电源长期处于高负载、强电场环境，易受电磁干扰、元器件

在半导体制造工艺中，静电卡盘（ESC）通过高压电场吸附晶圆，其核心驱动部件——高压电源的稳定性直接决定晶圆平整度与温度均匀性。而高压