技术资源_泰思曼高压电源

离子注入超低能量高压减速电源

在半导体先进制程中，浅结形成、沟道工程、阱调整以及绝缘体上硅技术等，都需要将离子以极低的能量（通常指低于1 keV，甚至到100 eV以下

在物理气相沉积领域，尤其是磁控溅射和多弧离子镀中，薄膜与基体之间的界面性质，以及多层膜中不同材料层之间的界面，是决定涂层附着力、内

在工业微加工、平板显示制造、半导体光刻（尤其是退火与剥离工艺）、医疗器械表面处理及精密打标等领域，准分子激光以其短波长（深紫外至紫

在先进半导体制造中，离子注入是精确控制掺杂、调整器件电学特性的关键工艺步骤。随着技术节点进入纳米尺度，尤其是对于三维FinFET、GAA晶

电子束直写技术作为分辨率最高的光刻手段之一，在纳米器件研发、掩模版制作及特殊微纳结构加工中具有不可替代的地位。其过程是将聚焦至纳米

在半导体先进制程的干法刻蚀与化学气相沉积设备中，静电卡盘是晶圆温度控制与固定技术的核心。其通过施加高压直流或交流电场，利用约翰逊-

在现代精密计量、高端仪器校准以及前沿基础科学研究中，对直流电压和电流基准的准确度与长期稳定性要求已逼近物理极限。基于约瑟夫森效应和

在高压静电除尘、粒子加速器注入器、X射线发生器、高压电缆测试等应用场合，225kV量级的高压直流电源是核心动力源。此类电源系统在运行时，

在纺织、包装、汽车内饰以及创意设计等领域，静电植绒工艺为产品表面赋予独特的绒面质感、缓冲性能或装饰效果。其传统过程是在平面基材上涂