引言光刻机作为半导体制造的核心设备，其高压电源（通常需提供数千伏电压及毫安级电流）的稳定性直接影响曝光精度。然而，高压电源在开关过
一、小型化的技术驱动因素材料创新推动体积缩减 传统电镜高压电源依赖笨重的电磁变压器和线性稳压电路，而新型宽禁带半导体（如氮化镓、碳
一、动态响应特性与蚀刻精度的关联性在半导体蚀刻工艺中，高压电源的动态响应特性（即系统对输入信号变化的实时反馈能力）直接决定了蚀刻轮
准分子激光器作为深紫外波段的核心光源，在光刻、精密加工等领域具有不可替代的地位。其性能高度依赖高压电源系统的效率——电源效率的提升
极紫外（EUV）光刻技术作为半导体制造进入7纳米以下制程节点的关键支撑，其核心在于高效、稳定的13 5纳米波长光源的生成。而实现这一目标的
离子注入机作为半导体制造的核心设备，其高压模块的性能直接决定了离子束的能量精度、分布均匀性及工艺稳定性。在纳米级芯片制造中，高压模
在半导体制造中，等离子体蚀刻是定义纳米级器件结构的关键工艺，而高压电源作为蚀刻设备的核心动力源，其设计直接决定蚀刻精度与良率。随着
一、技术背景准分子激光器（工作波长范围157-353 nm）作为深紫外波段的核心光源，其性能直接依赖于高压脉冲电源的精度与可靠性。传统电源
在半导体制造领域，光刻机是决定芯片制程精度的核心设备，而光源系统作为光刻机的心脏，其性能直接决定了光刻分辨率和芯片集成度。高压驱动
