技术资源_泰思曼高压电源

电子束曝光高压电源图形写入精度

在纳米级集成电路制造、先进掩模版制作以及纳米器件研发中，电子束直写曝光技术因其无需掩模、分辨率极高的特点，成为实现最精细图形结构的

在精密计量、基础科学研究（如量子物理、原子钟）、高分辨率质谱以及某些尖端半导体测试领域，为敏感负载或参考电路供电的电源，其输出直流

在质谱分析、粒子物理实验、光子计数成像等众多高灵敏度探测领域，微通道板探测器因其高增益、快速响应和优良的空间分辨能力而被广泛应用。

在电子束选区熔融增材制造过程中，高能量密度的电子束作为热源，按照三维模型的切片数据，选择性地熔化金属粉末床，逐层堆积成形。电子束的

准分子激光器作为深紫外至紫外波段的高功率脉冲光源，在半导体光刻、微加工、医疗及科研领域不可或缺。其激光产生依赖于高压脉冲放电激励工

在先进半导体制造工艺中，如刻蚀、薄膜沉积和离子注入，晶圆温度的均匀性和稳定性是决定工艺结果均匀性、器件性能及良率的核心因素之一。静

在材料表面改性领域，等离子体浸没离子注入技术是一种能够对复杂形状工件（如齿轮、模具、刀具）进行全方位、均匀改性处理的先进工艺。与传

在半导体制造、先进封装、平板显示以及某些精密光学元件加工中，静电卡盘是实现晶圆或基板无接触、高平整度夹持的关键部件。随着器件特征尺

在脉冲磁控溅射、脉冲电弧沉积以及脉冲等离子体辅助化学气相沉积等先进真空镀膜技术中，脉冲电源的占空比——即脉冲导通时间与整个脉冲周期