技术资源_泰思曼高压电源

精密稳压电源助力设备良率提升

在先进制程与高精度镀膜、刻蚀、检测等设备中，工艺结果对供电电压的微小波动极其敏感，哪怕0 1%的瞬态变化都可能导致数十纳米的线宽偏差或

半导体与面板产线对高压电源的可用率要求近乎苛刻，传统一体式高压电源一旦出现局部故障往往导致整台设备停机，维修等待时间动辄数小时甚至

CMP产线稳定性直接决定先进逻辑和存储芯片的最终良率，尤其在多格局、多材料叠层日益复杂的当下，任何一次静电卡盘吸附异常都可能导致整批

化学机械抛光设备对电源的要求看似简单，实则极端苛刻：输出电压需在数千伏量级保持长期稳定，纹波系数小于0 01%，同时对负载突变（如晶圆

CMP设备自动化水平长期落后于光刻、刻蚀等工序，主要瓶颈在于高压电源与主机之间信息交互深度不足，导致吸附参数调整仍需大量人工干预。高

近年来，CMP设备高压电源国产化进程从实验室验证快速转向大规模量产落地，一批完全自主知识产权的高性能电源系统已在多个一线晶圆厂完成整

化学机械抛光工艺的效率长期受制于静电卡盘吸附稳定性、去除速率一致性和耗材利用率等多重因素。高压电源作为静电吸附力的唯一来源，其性能

晶圆退火设备高压电源主要用于驱动加热灯丝、静电卡盘与离子注入后激活工艺，其峰值功率往往超过80kW，传统连续高功率运行模式导致大量能量

晶圆清洗设备高压电源长期运行在高湿度、强化学腐蚀与频繁启停的极端环境中，其维护效率直接影响整线稼动率与晶圆安全。传统整体式电源一旦