技术资源_泰思曼高压电源

检测设备电源国产化及创新应用

半导体检测设备对高压电源的可靠性、精度和响应速度要求极高，过去高端检测平台几乎全部依赖进口电源，不仅采购成本高昂，而且在供应链安全

高压电源的传统控制方式主要依赖设备本地面板与简单PLC联锁，参数调整分散、运行状态割裂、异常响应滞后，已难以满足现代产线对可视化、预

在先进制程与高精度镀膜、刻蚀、检测等设备中，工艺结果对供电电压的微小波动极其敏感，哪怕0 1%的瞬态变化都可能导致数十纳米的线宽偏差或

半导体与面板产线对高压电源的可用率要求近乎苛刻，传统一体式高压电源一旦出现局部故障往往导致整台设备停机，维修等待时间动辄数小时甚至

CMP产线稳定性直接决定先进逻辑和存储芯片的最终良率，尤其在多格局、多材料叠层日益复杂的当下，任何一次静电卡盘吸附异常都可能导致整批

化学机械抛光设备对电源的要求看似简单，实则极端苛刻：输出电压需在数千伏量级保持长期稳定，纹波系数小于0 01%，同时对负载突变（如晶圆

CMP设备自动化水平长期落后于光刻、刻蚀等工序，主要瓶颈在于高压电源与主机之间信息交互深度不足，导致吸附参数调整仍需大量人工干预。高

近年来，CMP设备高压电源国产化进程从实验室验证快速转向大规模量产落地，一批完全自主知识产权的高性能电源系统已在多个一线晶圆厂完成整

化学机械抛光工艺的效率长期受制于静电卡盘吸附稳定性、去除速率一致性和耗材利用率等多重因素。高压电源作为静电吸附力的唯一来源，其性能