技术资源_泰思曼高压电源

镀膜脉冲电源负偏压清洁功能

在物理气相沉积、特别是磁控溅射镀膜工艺中，为基片施加一个直流或脉冲负偏压，是改善薄膜致密度、附着力、应力及晶体取向的关键技术。然而

在精密计量、高分辨率质谱、量子计算以及前沿物理实验等领域，为关键负载供电的高压或高精度直流电源，其输出值的长期稳定性被要求控制在百

在基于加速器（如串列式静电加速器、回旋加速器）的中子产生装置中，高能离子束（通常是质子或氘核）轰击靶材（如铍、锂）产生中子。离子束

在半导体先进制程中，浅结形成、沟道工程、阱调整以及绝缘体上硅技术等，都需要将离子以极低的能量（通常指低于1 keV，甚至到100 eV以下

在物理气相沉积领域，尤其是磁控溅射和多弧离子镀中，薄膜与基体之间的界面性质，以及多层膜中不同材料层之间的界面，是决定涂层附着力、内

在工业微加工、平板显示制造、半导体光刻（尤其是退火与剥离工艺）、医疗器械表面处理及精密打标等领域，准分子激光以其短波长（深紫外至紫

在先进半导体制造中，离子注入是精确控制掺杂、调整器件电学特性的关键工艺步骤。随着技术节点进入纳米尺度，尤其是对于三维FinFET、GAA晶

电子束直写技术作为分辨率最高的光刻手段之一，在纳米器件研发、掩模版制作及特殊微纳结构加工中具有不可替代的地位。其过程是将聚焦至纳米

在半导体先进制程的干法刻蚀与化学气相沉积设备中，静电卡盘是晶圆温度控制与固定技术的核心。其通过施加高压直流或交流电场，利用约翰逊-