技术资源_泰思曼高压电源

磁控溅射双极脉冲电源创新

在先进的物理气相沉积领域，磁控溅射技术是制备各类功能薄膜的主流方法。为了进一步提升薄膜质量（如提高致密度、改善附着力、降低内应力、

在基于微通道板的光电倍增与粒子探测系统中，MCP需要施加数百至数千伏的高压以建立电子倍增所需的内部电场。理想的MCP在无光或无入射粒子时

在半导体制造中，离子注入是精确控制掺杂浓度与分布的关键工序。离子束的能量，由加速高压电源的电压直接决定，其精度（包括绝对值的准确度

在半导体先进制造与真空工艺中，静电卡盘是实现晶圆或基板无夹持力固定、精确控温的核心部件。其工作原理是通过施加高压静电吸附力，使工件

准分子激光器以其输出紫外至深紫外波段短波长、高单脉冲能量、高峰值功率的特性，在微电子光刻、材料加工、医疗、科研等领域占据独特地位。

在制药行业，安瓿瓶作为无菌注射剂的主要包装形式，其密封完整性是保障药品安全、有效、防止微生物污染的关键。高压放电法（或称电导检测法

离子束技术在半导体注入、材料表面改性、精密刻蚀与分析等领域扮演着关键角色。无论是用于离子注入的百千伏至兆伏级高压，还是用于聚焦离子

在高端光学镀膜、半导体薄膜沉积以及超导薄膜制备等真空镀膜工艺中，磁控溅射、电弧蒸发、离子束辅助沉积等技术常需要为靶材或基板施加高达

在现代工业涂装领域，静电喷涂技术因其上漆率高、涂层均匀、环保效益好而被广泛应用。其工艺核心是在喷枪电极与接地工件之间建立数万至数十