技术资源_泰思曼高压电源

高压电源优化刻蚀产线稳定性

刻蚀产线对等离子体稳定性要求极高，射频功率或偏压只要出现0 5%的瞬态波动，就可能导致数十纳米的CD偏差或选择比失控。高压电源作为等离子

刻蚀产线经常面临新产品快速导入、多品种小批量混线、工艺窗口频繁调整的现实需求，传统一体式高压电源功能固定、功率档位单一，一旦工艺变

CMP设备电源智能化已从简单的数字面板走向深度学习、工艺闭环、预测维护的全面融合，升级路径分为感知层、控制层、决策层三个递进阶段，每

CMP产线最怕的不是产能不足，而是因电源波动导致的划伤、碟形凹陷、蚀坑等致命缺陷。高压电源稳定性已成为决定300mm晶圆抛光后表面质量的关

化学机械抛光设备虽单台功率不如刻蚀沉积设备，但7×24小时连续运行且抛光头、载盘、调节器等多电机系统频繁启停，导致实际电耗远超额

金属增材制造（即金属3D打印）对高压电源提出了一系列极端要求：电子束功率需在数秒内从0跳变至60kW，束斑位置毫秒级精确可控，加速电压稳

在多模块并联的高压电源系统中，传统均流控制依赖模拟反馈环路，存在响应滞后、负载突变时环流大、长期运行后模块间参数漂移等问题，导致部

纳米制造设备（如EUV光刻、HELium ion microscope、聚焦离子束、原子层沉积辅助电源等）对高压电源要求极端：电压10-100kV，纹波<1mV，响

当高压电源稳定性要求进入0 01ppm、纹波低至nV级、长时间漂移小于10ppm时，传统PID甚至线性最优控制都已触及物理极限。AI优化控制以深度神