技术资源_泰思曼高压电源

血液辐照用300kV自屏蔽高压变压器

血液辐照仪要求X射线管工作在160-300kV宽范围、管流5-30mA，设备却必须放在普通血站库房而非铅房，因此高压部件需自带完整辐射屏蔽。最新30

安瓿瓶灯检机每分钟需检测1200-2400支药液异物，单支瓶曝光时间仅60-90μs，要求160kV闪光管在<40μs内释放>180mJ光能，且多灯并联触发

先进光刻与刻蚀设备在300mm晶圆从E-Chuck向机械手传送的380ms窗口内，必须将卡盘残余电荷降至<3pC，否则极易产生侧向放电烧伤晶圆边缘或引

离子束刻蚀（IBE）加工红外光学晶体、SAW滤波器叉指换能器与MRAM磁隧道结时，需在栅网施加30-200V低能偏置以精确控制离子入射能量与角度，

反应磁控溅射制备高介电常数栅介质、透明导电膜与光学多层膜时，常需在同一腔体内交替沉积金属层与化合物层，传统单极性电源需停机换靶或机

用于紧凑型中子发生器的直流高压电源，肩负着为离子源加速氘核粒子至数百keV能量的重任。一个典型的320kV高压电源，其输出功率可达数千瓦至

在先进的磁控溅射镀膜工艺中，尤其是用于制备高密度、低应力、优异附着力的功能性薄膜时，非平衡磁控溅射与脉冲技术相结合已成为行业标准。

在高端质谱分析领域，特别是傅里叶变换离子回旋共振质谱仪、轨道阱质谱仪等高分辨率仪器中，离子光学系统的稳定性和重复性直接决定了仪器的

在大型真空镀膜设备，特别是用于光学镀膜、半导体功能性薄膜沉积的系统中，225kV量级的高压电源扮演着至关重要的角色，但其应用方式并非直